面向曝光用途的KrF受激准分子激光器（Excimer Laser）光源的功率提高速度越来越快。最大的受激准分子激光器制造商美国Cymer公司日前发表了激光脉冲的反复频率为6kHz、输出功率为90W的“XLA 400”，与上一代产品“XLA 300”相比，输出功率提高了1.5倍。
XLA 400设想主要用于配备在开口率（NA）1.2以上的液浸ArF曝光装置上。该开口率由于需要反射·折射光学系统，所以存在反射镜等造成光损失的问题，要求提高激光器光源的输出功率。XLA 400将从2006年第2季度开始供货。
日本Gigaphoton也发表了6kHz、60W的新产品“GT60A”，目前已经开始供货。与上一代产品“GT40A”（4kHz，45W）相比，输出功率提高了33%。将从2006年中期开始通过配备在液浸ArF曝光装置上、在半导体工厂投入使用。
|
