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国内国际激光应用技术最新动态
2008/5/15/09:46  来源:中国工业激光网
    一、上海光机所高功率激光器取得突破 

    近日,从中科院上海光学精密机械研究所获悉,我国至今运行规模最大的高功率激光装置“神光Ⅱ”的研究取得最新进展,其精密化技术研究项目历经多年攻关,已通过国家鉴定验收。 

    中科院专家组认为,我国激光驱动器在激光功率平衡、激光打靶落点精度、准方波脉冲输出控制等三个精密化核心技术环节上已达到国际同类技术先进水平。 

    二、日本成功研发出最快激光刻录技术 

    近日,日本Nichia公司宣布,公司已经打破了蓝光光盘刻录速度的记录。该公司称,一种新的蓝紫光能够以10X以上的刻录速度来填充一张54G双成层光盘。而且前各大厂商推出的蓝光和HD DVD格式光盘刻录机除了少部分可以达到4X的写入速度外,绝大部分的写入速度都在2X。 

    10X的刻录速度和如今2X,其差距的意义主要取决于未来高速蓝光的普及。采用2X蓝光的DVD刻录机向一张光盘上写入一部全长度DVD电影,需要大约50分钟,而一部10X激光DVD刻录机完成同样的任务只需要10分钟左右。
 
    写入时间的快慢取决于激光的能量。Nichia的新蓝紫半导体激光器据称可以在320mW下运行,而如今常用的消费级蓝光设备通常是在20mW的范围内运作。 

    蓝光发明人、前Nichia公司研究人员Shuji Nukamura所领导的UCSB团队,近日演示了世界上首个非极性蓝紫激光器。据称,该技术可以最终产生出在500mW范围内运作的蓝光。但这种非极性蓝光的普及还要2~4年之久。 

    三、极紫外光刻机光源技术项目通过验收 

    目前,中科院上海光学精密机械研究所“极紫外光刻机光源技术研究”项目通过验收,这标志着我国在下一代芯片工艺核心技术——极紫外光刻(EUVL)光源转换效率方面,已经达到国际先进水平。 

    作为一种新型的微电子光刻技术,“极紫外光刻”以波长为13.5纳米的“软X射线”为曝光光源,最终将成为生产更细线宽集成电路的主流技术。 

    四、Sterlite公司发明新型光纤制造技术 

    印度唯一的光纤制造商Sterlite光技术公司日前宣布其新型光纤制造技术发明获得印度专利。专利号为IN203463的这一发明为“制造低偏振模式色散的绞士光纤的方法”。该专利于2006年11月正式获得印度专利局批准。本财政年度里,Sterlite已经获得4项印度专利。Sterlite公司表示在知识产权上的努力将有助于他们奠定在技术和市场领域的领先地位。他们将不断努力为用户带来更多的创新技术。 

    五、激光技术可冷却物体接近绝对零度 

    美国麻省理工学院研究人员目前表示,他们利用激光冷却技术,成功地将体积相当于硬币大小的物体冷却到接近绝对温度零度。

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